工业气体中有哪些分类？

1.特种气体：指那些在特定范畴中使用的, 对气体有特别要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体制造的二元或多元混合气。特种气体类别繁复, 一般可区分为电子气体、规范气、环保气、医用气、焊接气、杀菌气等, 广泛用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及确诊、食品保鲜等范畴。

2. 规范气体：规范气体归于规范物质。规范物质是高度均匀的、良好安稳和量值)准确的测定规范, 它们具有复现、保存和传递量值的根本效果, 在物理、化学、生物与工程丈量范畴中用于校准丈量仪器和丈量进程, 点评丈量办法的准确度和检测实验室的检测才能, 断定资料或产品的特性量值, 进行量 值裁定等。

3、电子气体：半导体工业用的气体统称电子气体。按其类别可分为纯气、高纯4 _6 m+ p- _4气和半导体特别资料气体三大类。特别资料气体首要用于外延、掺杂和蚀刻工艺；高纯气体首要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。

4. 外延气体：在细心选择的衬底上选用化学气相淀积(CVD) 的办法成长一层或多层资料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4 种, 即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅, 首要用于外延硅淀积, 多晶硅淀积, 淀积氧化硅膜, 淀积氮化硅膜, 太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。

5. 蚀刻气体：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工外表如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉, 而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来, 这样便在基片外表得到所需求的成像图形。蚀刻的根本要求是, 图形边际整齐, 线条清晰, 图形改换差小, 且对光刻胶膜及其掩蔽维护的外表无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体, 一般多为氟化物气体, 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻因为蚀刻方向性强、工艺控制准确、便利、无脱胶现象、无基片损伤和沾污, 所以其使用规模日益广泛。

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